跳转到主要内容
TechGene
技术基因
故事
技术百科
关系图谱
⌕
搜索技术、故事或正文
English
半导体光刻 的关系图
查找局部图谱
⌕
局部关系图谱
当前节点
当前范围
范围外周边
拖拽 · 滚轮缩放
关系筛选
演化自
源自
依赖
促成
应用于
替代
特化
跨领域迁移
实现
组成部分
选择图中技术
大规模集成
半导体光刻
平面工艺
可见关系
当前已加载 · 2 条
大规模集成
→
半导体光刻
依赖
大规模集成需要光刻、掺杂、氧化和互连等工艺反复叠加，以稳定地缩小和复制器件结构。
半导体光刻
→
平面工艺
促成
光刻和掩膜把表面开口图案转移到晶圆上，使平面工艺能够重复形成受保护的器件区域。